真空高溫烘箱的必要性：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

真空高溫烘箱一般工作流程：
首先確定工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空，待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后，開(kāi)始充人氮?dú)?，充到達(dá)到某低真空度后，冉次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后，開(kāi)始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空，充入HMDS氣體，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后，停止充入HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng)，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而*性表面變成非*性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。
尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到專(zhuān)用廢氣收集管道。在無(wú)專(zhuān)用廢氣收集管道時(shí)需做專(zhuān)門(mén)處理。

真空高溫烘箱特點(diǎn)：
美觀(guān)耐用性：內(nèi)采用SUS不銹鋼，外采用A3鋼板，噴塑處理；       
使用安全性：加厚的保溫層，良好的保溫性能，隔熱、節(jié)能效果顯著；     
控制穩(wěn)定性：智能微電腦控制儀表，數(shù)字顯示，控溫精度高、準(zhǔn)確；      
高性能：巧妙的風(fēng)道設(shè)計(jì)，溫度均勻度高；    
實(shí)用性：強(qiáng)力門(mén)扣加特制的密封材質(zhì)，確保箱內(nèi)密封效果優(yōu)良；     
可靠性：完善的安全保護(hù)裝置，適合長(zhǎng)期連續(xù)運(yùn)行。

真空高溫烘箱箱體結(jié)構(gòu)：
1)本設(shè)備由室體、真空系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)等組成
2)箱體采用先進(jìn)的機(jī)械設(shè)備制作、工藝先進(jìn)、線(xiàn)條流暢，美觀(guān)大方
3)內(nèi)箱材質(zhì)為3mm厚優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板經(jīng)拋光處理，加強(qiáng)脛進(jìn)行加固。外箱材質(zhì)為1.2mm厚優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板經(jīng)表面特殊處理后靜電噴涂而成。
4)門(mén)與門(mén)框之間采用高性能密封材料及獨(dú)特的硅橡膠密封結(jié)構(gòu)，密封、抗老化性好。
5)箱內(nèi)設(shè)有不銹鋼活動(dòng)樣品架，可拆卸易清洗。